適用于非晶硅薄膜太陽能電池的透明導電膜（SnO2、ZAO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si）、背電極膜（ZnO、Ai）的激光刻膜
（刻線、切割），其它薄膜電池的膜層刻膜（金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜）。
產(chǎn)品特點：
激光波長 ： 1064nm或532nm 刻膜線寬 ： 30um ～ 100um 刻膜速度 ： 30m／min ～ 60m／min 刻膜精度 ： 三線外沿總寬度 < 400um 玻璃幅面 ： 1245mm x 635mm 占地面積(長x寬)： 3000mm x 1600mm
半導體端面泵浦激光器，雙光路等能量分光 高剛性主機采用大理石床身、鑄鐵龍門結構 精密滾珠絲杠伺服驅動．龍門一維移動 電池板靜止．雙激光頭雙工位同步加工無需拼接 CCD刻線質(zhì)量檢測和工件輔助定位 實時同步吸塵裝置
