無錫市錫山區(qū)半導(dǎo)體先進(jìn)制造創(chuàng)新中心（以下簡稱“創(chuàng)新中心”）是由無錫市錫山區(qū)政府牽頭，聯(lián)合國內(nèi)知名高校、科研院所和龍頭企業(yè)共同組建的新型研發(fā)機(jī)構(gòu)。
創(chuàng)新中心聚焦半導(dǎo)體先進(jìn)制造領(lǐng)域，致力于突破關(guān)鍵核心技術(shù)，推動產(chǎn)業(yè)鏈上下游協(xié)同創(chuàng)新，打造國內(nèi)領(lǐng)先、國際一流的半導(dǎo)體先進(jìn)制造產(chǎn)業(yè)集群。
核心產(chǎn)品： 創(chuàng)新中心圍繞：光學(xué)非球面超精密復(fù)合加工機(jī)床、半導(dǎo)體制造工藝、設(shè)備和材料等關(guān)鍵環(huán)節(jié)，重點(diǎn)布局以下產(chǎn)品方向：
1. 高端半導(dǎo)體裝備： 產(chǎn)品名稱： 高密度等離子體刻蝕機(jī) 型號： XS-ICP100 參數(shù)： 刻蝕均勻性：≤±3% 刻蝕速率：≥500nm/min 關(guān)鍵尺寸控制：≤±2nm 適用材料：硅、氮化硅、氧化硅等 應(yīng)用領(lǐng)域：邏輯芯片、存儲芯片、功率器件等 產(chǎn)品優(yōu)勢： 該設(shè)備采用自主研發(fā)的高密度等離子體源和先進(jìn)的控制系統(tǒng)，具有刻蝕均勻性好、速率快、精度高等特點(diǎn)，可滿足先進(jìn)制程芯片的制造需求。
2. 先進(jìn)半導(dǎo)體材料： 產(chǎn)品名稱： 高純電子特氣 型號： XS-EG100 參數(shù)： 純度：≥99.9999% 雜質(zhì)含量：≤0.1ppm 種類：氦氣、氬氣、氮?dú)?、氫氣? 應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體制造、平板顯示、光伏等 產(chǎn)品優(yōu)勢： 該產(chǎn)品采用先進(jìn)的純化技術(shù)和質(zhì)量控制體系，具有純度高、雜質(zhì)含量低、穩(wěn)定性好等特點(diǎn)，可滿足半導(dǎo)體制造過程中對高純氣體的嚴(yán)格要求。
咨詢：15910974236
3. 半導(dǎo)體制造工藝解決方案： 產(chǎn)品名稱： 先進(jìn)封裝工藝解決方案 型號： XS-APS100 參數(shù)： 封裝形式：FCBGA、FCCSP、WLCSP等 封裝密度：≥1000 I/O 封裝厚度：≤0.5mm 應(yīng)用領(lǐng)域：5G通信、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等 產(chǎn)品優(yōu)勢： 該方案提供從設(shè)計(jì)、仿真到制造、測試的全流程服務(wù)，具有高密度、高性能、低成本等特點(diǎn)，可滿足先進(jìn)封裝技術(shù)的快速發(fā)展需求。
